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高頻 PCB 設計中的集膚效應損耗管理

最初發布於 Oct 27, 2026, 更新於 Oct 27, 2026

3 分鐘

目錄
  • 了解高速 PCB 中的集膚效應
  • 增加集膚效應損耗的主要因素
  • 如何降低 PCB 中的集膚效應
  • 我們的高速 PCB 製造方案
  • 集膚效應常見問題
  • 結論

重點摘要

  • 集膚深度會縮小:高頻會迫使電流集中在走線表面,10 GHz 時集膚深度可縮小至 0.66 µm。
  • 粗糙度會增加損耗:銅箔粗糙度會令電流路徑變長,並大幅提高高速訊號的電阻。
  • 電鍍會影響訊號:ENIG 等低導電率表面處理中的鎳,會增加外露走線的衰減。
  • 較寬走線有助於降低損耗:更寬的走線和更厚的介電層可以擴大電流流動表面,降低導體損耗。
  • 使用平滑銅箔:VLP/HVLP 低輪廓銅箔配合先進層壓材料,是 10 GHz 以上設計的必要條件。

集膚效應會將高頻電流推向銅走線表面的薄層。此時,走線的表現就像大部分銅箔消失了一樣。在 1 GHz 下,這個導電層深度只有約 2 µm,而標準 1 oz 走線厚度為 35 µm。變化中的電流會在導體內部建立變化中的磁場,而該磁場會在銅芯內感應出微小的反向電流,使中心區域的電流互相抵消,並在表面附近增強。

集膚效應將電流集中在 PCB 外層

圖 1:集膚效應將電流集中在 PCB 的外層

訊號變化越快,可以使用的導電層就越淺。此時,銅箔厚度以及銅箔上電鍍的金屬種類,會決定有多少訊號能夠通過。本指南將解釋集膚深度,以及銅箔粗糙度和表面處理如何造成損耗,並說明如何選擇銅箔、走線幾何形狀和層壓材料,以控制高速訊號損耗。

了解高速 PCB 中的集膚效應

所有具有交流電的導體都會出現集膚效應。在 PCB 上,它是一項決定高速訊號能使用多少銅箔的規則,並進一步決定走線會產生多少損耗。

什麼是集膚效應和集膚深度?

交流電傾向於沿導體表面流動,而不是均勻分布在整個導體截面。集膚深度是指低於材料表面的深度,在該位置的電流密度約為表面電流密度的 37%。約 63% 的電流位於最初的集膚深度內,因此工程師會將這個深度視為導體的有效厚度,也就是「集膚深度」。

1 MHz 至 77 GHz 的銅集膚深度

圖 2:1 MHz 至 77 GHz 的銅集膚深度

集膚深度與導體的電阻率、訊號頻率和材料磁導率有關,計算公式如下:

δ = √[ρ / (π f μ₀ μᵣ)]

其中:

  • δ = 集膚深度(m)
  • ρ = 導體電阻率(Ω·m)
  • f = 訊號頻率(Hz)
  • μ₀ = 真空磁導率(4π × 10⁻⁷ H/m)
  • μᵣ = 導體相對磁導率(銅約為 1)

δ ≈ 66 / √f₍MHz₎  µm

其中 f 以兆赫(MHz)表示,δ 以微米(µm)表示。隨著頻率增加,集膚深度會下降。例如,銅在 1 MHz 時的集膚深度約為 66 µm,而在 100 MHz 時約為 6.6 µm。

頻率 銅中的集膚深度 常見應用 對 1 oz(35 µm、1.4 mil)走線的意義
1 MHz66 µm(2.6 mil)開關穩壓器迴路電流仍然充滿整個厚度
10 MHz21 µm(0.82 mil)慢速時鐘及其諧波走線中心開始變得少有電流
100 MHz6.6 µm(0.26 mil)高速數位邊緣少於五分之一厚度承載電流
1 GHz2.1 µm(0.08 mil)Gbps 串列鏈路表面紋理開始變得重要
10 GHz0.66 µm(0.026 mil)多 Gbps 鏈路、X 波段 RF銅箔粗糙度主導導體損耗
77 GHz0.24 µm(0.009 mil)汽車雷達只有銅箔最外層導電

高頻電流如何在銅中流動

當電流流過走線時,電流會重新分布,因為走線和回流路徑形成的迴路不喜歡磁通量變化。在低頻下,主要限制是電阻,電流分布相對均勻。在高頻下,電感的電抗成為主要因素,電流會沿著磁通量最小的路徑流動,也就是靠近參考平面回流電流的路徑。

1 MHz 和 5 GHz 下微帶線截面的電流密度

圖 3:1 MHz 和 5 GHz 下微帶線截面的電流密度

因此,電流會集中在微帶線走線的下表面,以及微帶線下方的兩個角落。回流電流則會在走線下方平面中的薄帶上形成鏡像。在這個過程中,走線周圍的電場不會改變,因此集膚效應不會影響走線電容,只會改變次表面的電流集中程度。這會稍微增加走線電阻,並降低其內部電感。

對訊號衰減和完整性的影響

由於集膚效應,走線電阻會隨頻率增加,並將訊號能量以熱量形式耗散。對於平滑銅傳輸線,Eric Bogatin 將導體衰減估算為:

導體損耗(dB/in)≈ [36 / (w × Z₀)] × √f₍GHz₎

其中:

  • w = 走線寬度,單位為 mil(1 mil = 0.001 英寸)
  • Z₀ = 走線特性阻抗(Ω)
  • f₍GHz₎ = 訊號頻率,單位為 GHz
  • 導體損耗 = 每英寸的近似衰減(dB/in)

對於 10 GHz 下、寬度 5 mil(0.127 mm)、阻抗 50 Ω 的走線:

導體損耗 ≈ [36 / (5 × 50)] × √10 ≈ 0.46 dB/in

集膚效應損耗與頻率相關,會影響訊號完整性。數位邊緣由大量諧波組成,而集膚效應對高次諧波的衰減比低次諧波更大。當邊緣沿走線傳播時,每個位元都會逐漸「塗抹」到下一個位元,最終使接收端的眼圖閉合。

增加集膚效應損耗的主要因素

金屬種類和頻率決定集膚深度,但實際損耗大小取決於流過這個薄層的電流。造成損耗的各項變化,與表面紋理、介電層幾何形狀和電鍍金屬量有關。

銅箔表面粗糙度

銅箔貼合層壓材料的一側會被粗化。這種齒狀結構可以將銅箔固定到樹脂中,為電路板提供剝離強度。在微帶線中,經處理的一側朝向接地平面,而電流也集中在這一側。當粗糙度接近集膚深度時,電流會沿著所有凸起和凹谷流動,使路徑長度和電阻增加。

Hammerstad 粗糙度修正用於計算粗糙銅表面造成的額外導體損耗。它被視為相對於平滑銅損耗的乘數,公式如下:

Kᵣ = 1 + (2/π) × arctan[1.4 × (Δ/δ)²]

其中:

  • Kᵣ = 粗糙度修正因子(無因次)
  • Δ = 銅箔表面 RMS 粗糙度(µm)
  • δ = 訊號頻率下的集膚深度(µm)
  • arctan = 反正切函數(弧度)

1 GHz 和 10 GHz 下粗糙銅箔輪廓與集膚深度比較

圖 4:1 GHz 和 10 GHz 下粗糙銅箔輪廓與集膚深度比較

當銅箔 RMS 粗糙度為 1 µm(約 0.04 mil)時,1 GHz 下修正因子約為 1.20;在 10 GHz 下則升至約 1.81。因此,同一粗糙銅表面在 10 GHz 下的導體損耗,約比平滑銅估算值高 81%。這個模型只是近似值,實際行為取決於銅箔輪廓和傳輸線幾何形狀。

電鍍材料和表面處理

表面處理只是阻焊層露出的銅箔表面,例如焊盤、邊緣發射端和未被阻焊層覆蓋的 RF 走線。在這些表面上,表面處理層就是實際導電表面;導電率低於銅的金屬會增加損耗:

  • ENIG 會沉積 3–6 µm(0.12–0.24 mil)化學鎳,再覆蓋約 0.05 µm(2 µin)金。鎳的導電率比銅低很多。
  • HASL是以錫為基礎的焊料,導電率約為銅的八分之一,厚度也會變化。
  • OSP是在裸銅上形成的有機塗層,因此不會對電流產生明顯導體損耗。
  • 沉銀會在表面留下薄薄的高導電金屬層,對損耗的影響幾乎可以忽略。

在多 GHz 等高頻環境中,ENIG 尤其重要,因為這些頻率下電流只能穿透數微米。ENIG 表面上的大量電流會流過鎳,而 3–6 µm 厚的鎳層可能填滿整個集膚深度範圍。

介電材料和走線幾何形狀

介電材料本身不會產生集膚效應,但會決定走線寬度,而走線寬度則決定可供電流流動的表面積。對於指定的 50 Ω 目標,走線與參考平面之間的距離越小、介電常數越高或介電層越薄,所需走線就越窄。導體損耗大致與 1/w 成正比,因此走線變窄會使每英寸電阻大致加倍。

蝕刻後,走線寬度會進一步變小,因為蝕刻液由上至下作用,最終形成梯形截面,靠近層壓材料的一側較寬。微帶線的大部分電流由這個較寬的底部承載。因此,蝕刻造成的寬度損失,正好發生在電流最集中的銅箔位置,這也是PCB 阻抗控制佈線與損耗控制實際上屬於同一項設計工作的原因。

如何降低 PCB 中的集膚效應

當頻率固定時,集膚深度不會改變。因此,要降低集膚效應損耗,就需要提供更平滑、更寬且導電性更好的表面。三個主要調整方向分別對應三種原因:銅箔、幾何形狀和層壓材料。

選擇低粗糙度銅箔

之所以要選擇適合的銅箔,是因為銅箔會在層壓製造期間與芯板黏合。大多數供應商會為每種芯板提供多個銅箔等級,表面越平滑,價格通常越高。銅箔規格 IPC-4562B 定義了輪廓級別,而資料表通常以 Rz,也就是峰谷高度,標示粗糙度。

銅箔類型 典型處理面 Rz 與 10 GHz 集膚深度(0.66 µm)的比較 適用範圍
標準 ED 7–10 µm(0.28–0.39 mil) 深度超過 10 倍 電源、控制和約 1 GHz 以下數位訊號
反向處理(RTF) 約 3–6 µm(0.12–0.24 mil) 深度為 4–9 倍 低 GHz 高速數位訊號
極低輪廓(VLP) 3–5 µm(0.12–0.20 mil) 深度為 4–8 倍 5–10 Gbps 鏈路和 6 GHz 以下 RF
超極低輪廓(HVLP) 低於約 2 µm(0.08 mil) 最高約 3 倍深度 25 Gbps 以上鏈路和毫米波 RF

超過 10 GHz 後,諧波能量較高,只有 VLP、HVLP 和最平滑的 RTF 等級,其粗糙度才接近幾個集膚深度。由於 RTF 沒有 IPC 粗糙度級別,應查閱資料表中的 Rz。

優化走線寬度和厚度

最有效的幾何調整方法是增加寬度,因為導體損耗大致與承載電流的表面寬度成反比。走線越寬,為支援 50 Ω 阻抗所需的介電層高度也越大。

  • 設定目標阻抗,例如單端 50 Ω 或差分 100 Ω。
  • 在堆疊結構允許的情況下,選擇到參考平面距離最大的介電層。
  • 根據該高度計算走線寬度,結果通常會比預設寬度更大。
  • 不要讓差分對過度緊密耦合,因為這會導致 100 Ω 走線過窄。

在 GHz 頻率下,銅箔厚度的影響並不大,因為 1 oz 走線厚度為 35 µm(1.4 mil),在 1 GHz 下約等於 17 個集膚深度。此後厚度增加並不會帶來明顯改善,而 JLCPCB 在改用 2 oz 銅箔時,兩層板最小間距會增加至 0.16 mm(6.5 mil)。集膚深度仍然接近銅箔厚度,較厚銅箔只會在約 15 MHz 以下提供明顯幫助。因此,應優先投資於更寬走線和阻抗控制佈線。

選擇先進電路板材料

低損耗層壓材料可以直接降低介電損耗,使導體損耗在總損耗中佔更大比例。

Bogatin 的近似公式使用耗散因數和介電常數估算單位長度介電插入損耗:

介電損耗(dB/in)≈ 2.3 × f₍GHz₎ × Df × √Dk

其中:

  • f₍GHz₎ = 訊號頻率,單位為 GHz
  • Df = 介電耗散因數(損耗正切),無因次
  • Dk = 相對介電常數,無因次
  • 介電損耗 = 每英寸近似衰減(dB/in)

對於 5 mil 走線,這項估算值約為上述銅導體損耗的兩倍。實際損耗取決於層壓材料性能、走線幾何形狀和頻率。

以 RO4350B 為例,Dk 為 3.48、Df 為 0.0037,使用相同公式計算得出每英寸約 0.16 dB 損耗。此時銅箔約佔總損耗四分之三,因此高級層壓材料配合粗糙銅箔,會浪費材料優勢。這也是 Rogers 提供採用反向處理銅箔的 RO4350B LoPro 的原因。

應用 訊號頻段 建議層壓材料 對集膚效應的意義
控制訊號、USB 2.0、SPI 低於 1 GHz 標準 FR-4 標準銅箔已足夠,導體損耗較小
PCIe Gen 3、10G Ethernet 4–5 GHz Nyquist 頻率 中低損耗 FR-4 系列 高速層指定 VLP 或 RTF 銅箔
Wi-Fi、5G 6 GHz 以下 RF 2.4–6 GHz RO4350B 或同類材料 配合低輪廓銅箔,並保持 RF 走線短
雷達、毫米波鏈路 24–81 GHz PTFE 基層壓材料 使用平滑銅箔,外露走線避免鎳表面處理

我們的高速 PCB 製造方案

低損耗設計仍然需要工廠準確重現走線寬度、銅箔和表面處理。JLCPCB 的高速和阻抗控制服務可以對應這些輸入條件。

精密銅箔蝕刻和粗糙度控制

走線寬度是在成像和蝕刻階段決定,因此寬度精度取決於圖形曝光精度。JLCPCB 使用全自動激光直接成像生產線,直接根據客戶資料寫入圖形,不需要使用菲林光罩。低損耗走線需要較寬幾何形狀,JLCPCB 標準能力可以在 1 oz 銅箔上實現 0.10 mm(4 mil)線寬和線距。

在 JLCPCB,粗糙度取決於材料選擇,因為層壓材料決定銅箔輪廓。高速 PCB 服務可以使用 Rogers RO4350B/ZYF 系列 PTFE 層壓材料製造雙層、1 oz 電路板,Df 低至 0.0016。這些層壓材料在能力頁面中沒有列出銅箔輪廓。如果損耗模型需要 VLP 或 HVLP 銅箔,應在指定堆疊結構前向支援團隊確認銅箔等級,確保電路板模型準確。

高速表面處理能力

傳統剛性電路板可選用 HASL(含鉛或無鉛)、ENIG 和 OSP。對於具有外露傳輸線的高速 FR-4 電路板,OSP 可以讓電流在裸銅中流動,不會產生額外導體損耗。當外露銅箔有限時,ENIG 通常更實用,因為它適合需要平整焊盤的細間距 BGA 和連接器。

高速線路可選用 1 或 2 µin(約 0.025 或 0.05 µm)金厚度的 ENIG。薄金層幾乎不會承載 RF 電流,底部鎳層則決定每個外露表面的損耗。只要可能,應讓長 RF 走線位於阻焊層下方,並按照阻抗模型將阻焊層納入模型,因為它可能使阻抗降低數歐姆。

嚴格阻抗和訊號測試

啟用訂單阻抗控制後,JLCPCB 在多層板上提供標準 ±10% 阻抗容差,也可選擇 ±5% 特別容差。JLCPCB 阻抗計算器以實際使用的堆疊結構為基礎,因此它提供的線寬就是製程預期使用的線寬。每個阻抗控制訂單都會依照PCB TDR 阻抗測試指南,在拼板邊緣附近進行 TDR 測試。

在拼板邊緣的 PCB 測試條上進行 TDR 阻抗測試

圖 5:在拼板邊緣的 PCB 測試條上進行 TDR 阻抗測試

TDR 只能確認阻抗,不能測量插入損耗。應增加直線測試走線,並使用向量網絡分析儀在第一批電路板上檢查集膚效應損耗。Gerber 檔案和阻抗控制可以在 JLCPCB 報價頁面啟用。

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集膚效應常見問題

問:集膚效應會影響 50 MHz SPI 匯流排嗎?

影響較小。50 MHz 下的集膚深度約為 9 µm,因此電流只使用 1 oz 走線的一部分,電阻會增加。不過走線通常較短,反射和串擾往往會在集膚效應之前造成問題。

問:使用 2 oz 銅箔可以降低集膚效應嗎?

在約 15 MHz 以上通常不能。當集膚深度遠小於銅箔厚度時,額外厚度不會承載更多電流,因此 2 oz 只會增加成本和所需間距。增加走線寬度或使用更平滑銅箔,能更有效降低損耗。

問:集膚效應與鄰近效應相同嗎?

不相同,但兩者會共同作用。集膚效應將電流推向單一導體的表面,而鄰近效應則將電流拉向承載反向電流的附近導體。因此,電流會集中在最靠近參考平面的走線表面。

問:銀鍍走線可以消除集膚效應損耗嗎?

不能。銀的導電率只比銅高約 6%,而集膚效應電阻與電阻率平方根相關,因此改善約為 3%。平滑銅箔帶來的幫助大得多,因為粗糙度可能使電阻接近加倍。

問:為什麼實測損耗比模擬高?

大多數模擬器會假設銅箔表面平滑,除非你輸入粗糙度模型。應根據層壓材料資料表,使用 Hammerstad 或 Huray 模型加入銅箔輪廓。外露走線也要將 ENIG 表面處理納入考慮,因為兩者都會使損耗高於平滑銅箔估算值。

結論

集膚效應不是需要完全避免的故障,因為 PCB 上的所有高速訊號都會受到它影響。你能控制的是電流被推向哪個表面。在低頻下,電阻主要由銅箔厚度決定;在 GHz 頻率下,則由銅箔粗糙度、外露銅箔表面處理,以及介電層上的走線寬度共同決定。

當每通道鏈路速率超過 112 Gbps 並進入更高毫米波頻段時,集膚深度會持續縮小到標準銅箔厚度以下。此時,銅箔等級應與 Dk 和 Df 一樣,直接顯示在堆疊圖中,而不應只寫在備註。設計完成後,可以使用 JLCPCB 的阻抗控制電路板,以及 Rogers 或 PTFE 高頻電路板,在實際硬件上驗證不同設計選項。

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